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CESx124UltraT進口濕法刻蝕和剝離系統(tǒng)PX 3649
濕電子化學(xué)品用PFA瓶耐腐蝕透明pfa取樣瓶PX 4890
572半導(dǎo)體濕法工藝專用鑷子PX 4147
PSE V300深硅刻蝕機PX 2000
SWC-5000全自動兆聲晶圓清洗機PX 3299
濕法刻蝕顯影機-勻膠機PX 3074
ICP-RIE SI 500德國SENTECH等離子刻蝕機PX 5886
JY-CM001金相腐蝕儀PX 3207
Fusions CO2 激光熔融系統(tǒng)PX 2354
美國Laurell濕法刻蝕顯影機 EDC-650Mz-8NPPPX 3620
濕法腐蝕清洗系統(tǒng)PX 3309
EDC-650-23濕法刻蝕機EDC-650-8/EDC-650-15/EDC-650-XPX 2320
WS-1000MLaurell-WS半導(dǎo)體濕法刻蝕系列PX 3649
WS-1000Laurell 濕法刻蝕設(shè)備PX 3649
EDC-650Hz-23NPPBLaurell-EDC勻膠顯影機PX 3649
EDC-650Hz-8NPPBLaurell勻膠顯影機EDCPX 3649
2英寸陶瓷片用四氟花籃耐腐蝕聚四氟清洗架PX 4890
HSE系列深硅刻蝕機PX 2000
customized硅片腐蝕清洗機PX 2000
PlasmaPro 800 RIE反應(yīng)性離子刻蝕系統(tǒng)RIEPX 2000
PlasmaPro 80 RIE反應(yīng)性離子刻蝕系統(tǒng)RIEPX 2000
RIE-1C緊湊型刻蝕設(shè)備PX 2000
RIE-400iPB深硅刻蝕設(shè)備PX 2000
RIE-800iPB電感耦合等離子體刻蝕設(shè)備PX 2000
RIE-800BCT深硅刻蝕設(shè)備PX 2000
RIE-802BCT深硅刻蝕設(shè)備PX 2000
ELEDE® 380系列芯片刻蝕機PX 2000
GDE C200系列高密度 刻蝕機PX 2000
NMC 508系列ICP 刻蝕機PX 2000
NMC 612G12英寸金屬刻蝕機PX 2000
NMC 508系列CCP介質(zhì)刻蝕機PX 2000
GSE C200多功能刻蝕機PX 2000
T-03半導(dǎo)體濕法工藝真空吸頭PX 4147
C20-0215半導(dǎo)體濕法腐蝕專用鑷PX 4147
全自動種植體腐蝕清洗機PX 0
SWC-4000兆聲晶圓(掩模版)清洗機PX 3299
全自動BOE刻蝕機PX 0
高溫磷酸刻蝕機_半導(dǎo)體單片清洗機PX 0
Excite Pharos 飛秒激光剝蝕系統(tǒng)PX 2354
Analyte Excite 準分子激光剝蝕系統(tǒng)PX 2354
薄膜生長設(shè)備
工藝測量和檢測設(shè)備
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光刻及涂膠顯影設(shè)備
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其它半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備
半導(dǎo)體濕法工藝專用鑷子
半導(dǎo)體濕法工藝真空吸頭
半導(dǎo)體濕法腐蝕專用鑷
JY-CM001金相腐蝕儀
Fusions CO2 激光熔融系統(tǒng)
Excite Pharos 飛秒激光剝蝕系統(tǒng)
Analyte Excite 準分子激光剝蝕系統(tǒng)
IRIDIA極速成像準分子 激光剝蝕系統(tǒng)
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