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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>測量/計量儀器>表面測量儀器>臺階儀>P170 探針式輪廓儀 Tencor P-170

P170 探針式輪廓儀 Tencor P-170

參考價500000-10000000
具體成交價以合同協(xié)議為準
產(chǎn)品標簽

粗糙度臺階儀表面應力

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今浩儀器設(shè)備有限公司是一家致力于向高科技企業(yè)、科研機構(gòu)提供*實驗分析儀器、設(shè)備的供應商,成立于2014年11月11日。我們不僅僅提供產(chǎn)品,我們還可以幫助客戶在檢測、分析和生產(chǎn)過程當中得到*、可靠的技術(shù)服務(wù)和解決方案。

從成立的那一天起,我們就把我們的優(yōu)勢和專注點集中于材料測試方面,其中包括材料的結(jié)構(gòu)、元素分布、表面特征、物理化學特性以及光學、電學特性的分析。

今浩秉承服務(wù),精益求精的宗旨,力求做到更好。我們始終以開放的溝通,完備的售前和售后支持,和專業(yè)水平高發(fā)展和維持著與客戶長期穩(wěn)定的良好合作關(guān)系

 

納米壓痕,臺階儀,輪廓儀,激光共聚焦,白光干涉

產(chǎn)地類別 進口 價格區(qū)間 面議
應用領(lǐng)域 建材/家具,電子/電池,道路/軌道/船舶,航空航天,綜合

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產(chǎn)品描述

探針式輪廓儀 Tencor P-170 是cassette-to-cassette探針式輪廓儀,將行業(yè)的Tencor P-17臺式系統(tǒng)的測量性能和經(jīng)過生產(chǎn)驗證的HRP®-260的機械傳送臂相結(jié)合。 這樣的組合為機械傳送臂系統(tǒng)提供了極低的擁有成本,適用于半導體,化合物半導體和相關(guān)行業(yè)。 探針式輪廓儀 Tencor P-170 可以對臺階高度、粗糙度、翹曲度和應力進行2D和3D測量,其掃描可達200mm而無需圖像拼接。

該系統(tǒng)結(jié)合了UltraLite®傳感器、恒力控制和超平掃描平臺,因而具備出色的測量穩(wěn)定性。通過點擊式平臺控制、頂視和側(cè)視光學系統(tǒng)以及帶光學變焦的高分辨率相機等功能,程序設(shè)置簡便快速。Tencor P-170具備用于量化表面形貌的各種濾鏡、調(diào)平和分析算法,可以支持2D或3D測量。并通過圖案識別、排序和特征檢測實現(xiàn)全自動測量。


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主要功能

  • 臺階高度:幾納米至1000μm

  • 微力恒力控制:0.03至50mg

  • 樣品全直徑掃描,無需圖像拼接

  • 視頻:500萬像素高分辨率彩色攝像機

  • 圓弧校正:消除由于探針的弧形運動引起的誤差

  • 軟件:簡單易用的軟件界面

  • 生產(chǎn)能力:通過測序、圖案識別和SECS/GEM實現(xiàn)全自動化

  • 晶圓機械傳送臂:自動加載75mm至200mm不透明(例如硅)和透明(例如藍寶石)樣品


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主要應用

  • 臺階高度:2D和3D臺階高度

  • 紋理:2D和3D粗糙度和波紋度

  • 形狀:2D和3D翹曲和形狀

  • 應力:2D和3D薄膜應力

  • 缺陷復檢:2D和3D缺陷表面形貌


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工業(yè)應用

  • 半導體

  • 化合物半導體

  • LED:發(fā)光二極管

  • MEMS:微機電系統(tǒng)

  • 數(shù)據(jù)存儲

  • 汽車

  • 還有更多:請與我們聯(lián)系以滿足您的要求


應用

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臺階高度

Tencor P-170可以提供納米級到1000μm的2D和3D臺階高度的測量。 這使其能夠量化在蝕刻,濺射,SIMS,沉積,旋涂,CMP和其他工藝期間沉積或去除的材料。Tencor P-170具有恒力控制功能,無論臺階高度如何都可以動態(tài)調(diào)整并施加相同的微力。 這保證了良好的測量穩(wěn)定性并且能夠精確測量諸如光刻膠等軟性材料。


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紋理:粗糙度和波紋度

Tencor P-170提供2D和3D紋理測量并量化樣品的粗糙度和波紋度。軟件濾鏡功能將測量值分為粗糙度和波紋度部分,并計算諸如均方根(RMS)粗糙度之類的參數(shù)。


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外形:翹曲和形狀

Tencor P-170可以測量表面的2D形狀或翹曲。這包括對晶圓翹曲的測量,例如半導體或化合物半導體器件生產(chǎn)中的多層沉積期間由于層與層的不匹配是導致這種翹曲的原因。Tencor P-170還可以量化包括透鏡在內(nèi)的結(jié)構(gòu)高度和曲率半徑。


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應力:2D和3D薄膜應力

Tencor P-170能夠測量在生產(chǎn)包含多個工藝層的半導體或化合物半導體器件期間所產(chǎn)生的應力。使用應力卡盤將樣品支撐在中性位置并精確測量樣品翹曲。 然后通過應用Stoney方程,利用諸如薄膜沉積工藝的形狀變化來計算應力。2D應力通過在直徑達200mm的樣品上通過單次掃描測量,無需圖像拼接。3D應力的測量采用多個2D掃描,并結(jié)合θ平臺在掃描之間的旋轉(zhuǎn)對整個樣品表面進行測量。


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缺陷復檢

缺陷復查用于測量如劃痕深度之類的缺陷形貌。 缺陷檢測設(shè)備找出缺陷并將其位置坐標寫入KLARF文件。 “缺陷復檢”功能讀取KLARF文件、對準樣本,并允許用戶選擇缺陷進行2D或3D測量。









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