手機版
化工儀器網手機版
化工儀器網小程序
官方微信
公眾號：chem17
掃碼關注視頻號
磁控離子濺射儀廣泛應用于各種材料的表面鍍膜，包括金屬、半導體、絕緣體等。其優(yōu)點包括設備簡單、易于控制、鍍膜面積大、附著力強等。此外，磁控離子濺射技術還具有沉積溫度低、沉積速度快、薄膜均勻性好等特點，適用于各種需要薄膜的工業(yè)和科研領域。
磁控離子濺射儀基于物理氣相沉積(PVD)技術，其工作原理是利用輝光放電產生等離子體，并通過磁場約束帶電粒子，提高濺射效率。在電場的作用下，電子加速飛向基片，與氬原子碰撞，使其電離產生氬離子和新的電子。氬離子在電場作用下加速轟擊靶材，使靶材表面的原子或分子濺射出來，濺射出的中性靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜。同時，二次電子在磁場的作用下產生E×B漂移，被束縛在靠近靶面的等離子體區(qū)域內，從而提高等離子體密度，增加濺射率。
磁控離子濺射儀主要由以下幾部分組成：
真空系統(tǒng)：包括真空腔體、真空泵組及真空測量裝置，用于創(chuàng)建并維持高真空環(huán)境，確保濺射過程中不受氣體分子干擾，提高薄膜的純度和質量。
濺射源：這是磁控濺射儀的核心部件，由靶材、磁體(通常為環(huán)形或平行布置的永磁體或電磁體)及冷卻系統(tǒng)組成。靶材是待濺射的材料，磁體產生的磁場則引導電子在靶材表面做螺旋運動，增加電子與氬氣分子的碰撞幾率，從而產生更多的氬離子轟擊靶材，提高濺射效率。
基底平臺：用于放置待涂覆或沉積的基底材料，通常具備加熱、旋轉及冷卻功能，以優(yōu)化薄膜的生長條件。
電源及控制系統(tǒng)：包括高壓電源、脈沖電源、磁場控制電源及整體控制系統(tǒng)的軟件部分，用于準確調控濺射過程中的電壓、電流、磁場強度及基底溫度等參數(shù)，實現(xiàn)好的質量的薄膜制備。
免責聲明
- 凡本網注明“來源：化工儀器網”的所有作品，均為浙江興旺寶明通網絡有限公司-化工儀器網合法擁有版權或有權使用的作品，未經本網授權不得轉載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經本網授權使用作品的，應在授權范圍內使用，并注明“來源：化工儀器網”。違反上述聲明者，本網將追究其相關法律責任。
- 本網轉載并注明自其他來源（非化工儀器網）的作品，目的在于傳遞更多信息，并不代表本網贊同其觀點和對其真實性負責，不承擔此類作品侵權行為的直接責任及連帶責任。其他媒體、網站或個人從本網轉載時，必須保留本網注明的作品第一來源，并自負版權等法律責任。
- 如涉及作品內容、版權等問題，請在作品發(fā)表之日起一周內與本網聯(lián)系，否則視為放棄相關權利。
采購中心