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本次大會，布魯克光譜將為您介紹材料質(zhì)量控制解決方案：

• 芯片分裝污染、異物、失效分析

• 顯示器件污染、異物分析

• 電路板異物、失效分析

此外，布魯克光譜提供半導(dǎo)體行業(yè)多應(yīng)用方向的解決方案：

• 常溫、低溫傅立葉變換光致發(fā)光系統(tǒng)，紅外低維材料表征：量子點(diǎn)、量子阱、超晶格；

• 聲子光譜、半導(dǎo)體材料帶隙，低維異質(zhì)結(jié)構(gòu)厚度以及電子特性研究；

• 外延層厚度分析：同質(zhì)外延，異質(zhì)外延，單層，多層；

• 紅外光電探測器器件光譜響應(yīng)表征：光電流譜；

• 紅外發(fā)光器件、激光器等電致發(fā)光器件中心波長、線寬、帶寬表征：ICL，QCL，VCSEL；

• 工業(yè)高純晶體硅質(zhì)量控制：間隙氧，代位碳，III-V族雜質(zhì)元素分析；

• 光伏硅晶體質(zhì)量控制：間隙氧，代位碳，施主，受主元素含量；

• 切割前硅晶棒、硅錠中氧含量軸向分布分析；

• 高純鍺、化合物半導(dǎo)體中雜質(zhì)元素分析。

儀器展示

LUMOS II 是一款獨(dú)立的傅立葉變換紅外顯微鏡，在失效分析、材料研究和顆粒分析方面非常出色。它采用FPA技術(shù)，結(jié)構(gòu)緊湊、精確，具有超快的化學(xué)成像功能。生產(chǎn)電子產(chǎn)品時要用到各種類型的有機(jī)/無機(jī)材料。FTIR 光譜是一種通用技術(shù)，可為大多數(shù)樣品提供有價值的化學(xué)信息。因此，F(xiàn)TIR 顯微技術(shù)對故障和根本原因分析有很大幫助。

INVENIO非常適用于需要高靈敏度、光譜或時間分辨率、穩(wěn)定性、靈活性和可升級性的情景，從而改善您在工業(yè)或研究應(yīng)用領(lǐng)域的日常分析體驗(yàn)。INVENIO可應(yīng)用在硅晶圓中氧和碳含量測定；亞微米量級至毫米量級外延層層厚無損光學(xué)測試、分析；近紅外光譜范圍的光致發(fā)光測量等。