賽默飛ICP光譜儀：礦產(chǎn)勘探和生產(chǎn)依賴于原子光譜儀器來繪制位置圖并確定目標元素?？碧竭^程中，通常會采集巖心樣品，進行研磨以確保均勻性，然后 送至實驗室進行分析。從采樣到分析的延遲是一個瓶頸。采用 Cerawave™  技術(shù)的 MICAP-OES  1000  可安裝在勘探現(xiàn)場，顯著縮短作 業(yè)決策時間。

目前，用于分析地質(zhì)樣品中金屬的傳統(tǒng)實驗室技術(shù)是原子吸收法和電感耦合氬等離子體發(fā)射光譜法 (ICP-OES)。前者使用可燃氣體，測量 范圍有限；后者使用氬氣，通常需要冷卻器進行冷卻。這兩種技術(shù)都不利于遠程移動、本地或遠程實驗室的檢測。

賽默飛ICP光譜儀：Radom 公司開發(fā)了采用功率為 1000 W 的微波指示耦合大氣等離子體-光學發(fā)射光譜儀 (MICAP-OES  1000)  的現(xiàn)場儀器解決方案。這款 創(chuàng)新的氮基等離子體原子光譜儀器取代了傳統(tǒng)的氬氣產(chǎn)生等離子體技術(shù)。MICAP-OES   1000  采用高效的 Cerawave  技術(shù)，取代了目前 市售 ICP-OES 儀器中的電水冷線圈，無需水冷。 [MICAP-OES  1000  可在 110V  或 220V  電壓下工作，并由普通插座供電]。工業(yè)級氮氣 (99.98%) 比氬氣便宜得多。氮氣可以在當?shù)厥褂玫獨獍l(fā)生器生產(chǎn)，從而無需持續(xù)采購氣體。它消除了偏遠地區(qū)對可燃氣體的需要。

MICAP-1000  是市面上占地面積最小的光學發(fā)射光譜儀， 配備易于使用的  RIS（ Radom   Intuitive   Software ）應用軟件。強大的 Cerawave  技術(shù)與高分辨率 sCMOS  相結(jié)合，可同時測量制備樣品中的元素。能夠現(xiàn)場篩查巖芯樣品，從而更快地確定結(jié)果。此外，它 還能夠在一個區(qū)域內(nèi)采集更多樣品，從而繪制出潛在產(chǎn)量的綜合圖譜。

使用 MICAP-OES  1000  分析已消解的 OREAS  CRM，其值已在王水中制備。王水消解法是使用 1:3  比例的硝酸和鹽酸進行部分消解 (1)。

本應用簡報將描述標準/樣品制備、MICAP-OES  1000 儀器技術(shù)、硬件描述、方法參數(shù)和結(jié)果摘要。主要測定元素是王水浸出液中的金。 由于 MICAP-OES  1000 具有同時分析功能，因此分析范圍可擴展至認證參考材料中的其他元素。

表 1. 樣品引入?yún)^(qū)域 (SIA)

樣品導入組件 (SIA)  的安裝非常簡單，只需將割炬導向夾手柄壓在一起，將割炬引導至孔口，直至銷釘停止割炬移動，然后松開夾具即可。 等離子體位置長久設定，無需校準等離子觀察。圖  1  展示了帶定位銷的割炬底座、帶支架手柄的割炬支架孔口以及安裝到位的割炬。

將霧化室/霧化器的組件卡到球窩接頭上，即可完成SIA的組裝。泵管已安裝完畢，并可輕松連接到SIA。

測試樣品制備

本研究從 OREAS 購買了多種 CRM。這些 CRM 專為采礦、勘探和分析行業(yè)開發(fā) (2)。表 2 列出了 CRM  IDS 及其矩陣描述。

為制備 CRM 樣品，將約 2 克 CRM 稱量至 50 毫升刻度 DigiTube（SCP Science  出品）。向每個稱量的樣品中加入 2  毫升硝酸 (HNO3)、6 毫升鹽酸 (HCl) 和 20 毫升 II 型水。每個樣品管上均放置一次性聚合物表面皿。每套制備套件均包含一份與樣品制備相同的消解空白。

使用 DigiPREP Jr  (50ml) 將測試溶液在 95°C 下回流 2 小時。待測試樣品冷卻至室溫后，用水稀釋至 50 毫升，并用 1.0 微米親水性 Teflon® 濾膜過濾。

校準標準制備

使用50 mL DigiTube管配制工作標準溶液。濃度范圍為0.025 ppm至20 ppm，稀釋劑為12% HCl/4% HNO3。校準標準溶液的濃度和參數(shù)匯總于表3。 MICAP-OES  1000 方法參數(shù)總結(jié)在表 4 中。